4月30日消息,英特尔在夏威夷檀香山举办的VLSI 2026研讨会上,通过论文T1.2正式公布Intel 18A-P制程节点的关键技术数据。相比标准Intel 18A节点,18A-P在相同功耗下实现超过9%的性能增益,在相同性能下功耗降低超过18%。
这类性能与功耗改进通常只在跨代节点过渡时才能见到,而现在18A-P在相同密度下即可实现。
英特尔论文原文列出了四项具体改进:额外的逻辑VT对、更严格的时钟偏移角控制、高密度(HD)和高性能(HP)库中新增的低功耗器件,以及两类库中性能提升版HP器件。
英特尔将18A-P的偏移角(skew corners)较标准18A收窄约30%,同一晶圆上晶体管之间的性能差异显著缩小,功耗和性能特性更加可预测,参数良率与芯片一致性同步提高。
散热层面,18A-P的热阻较18A降低约50%,导热效率大幅提升。这对于高性能计算场景中的持续高频运行尤为关键,也直接响应了背面供电技术(PowerVia)带来的散热挑战。
英特尔已向潜在客户交付18A-P的1.0版PDK工艺设计套件,以支持其开始测试芯片验证。该工艺仍基于RibbonFET全环绕栅极晶体管架构与PowerVia背面供电技术打造,属于18A平台的性能增强版本。
据TrendForce消息,苹果正在评估采用18A-P制程生产M系列芯片,谷歌则在考量借助英特尔EMIB先进封装技术推进TPU v8e项目,相关产品最早或于2027年落地。



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